Rasterelektronenmikroskop Hitachi S-800

Das Rasterelektronenmikroskop S-800 verfügt wie die neuere Ausführung S-4500 über eine kalte Feldemissionskathode mit Extraktionsspannungen bis 6.3 kV und Beschleunigungsspannungen bis hin zu 30 kV. Bei einer maximalen Vergrößerung von 300.000-fach garantiert es Abbildungen mit einer Auflösung von 2.0 nm. Das Elektronenmikroskop S-800 ist in der Arbeitsgruppe nicht mehr in seiner Standardausführung erhalten. Stattdessen wurde es in eine UHV-Anlage integriert, in der sowohl ein Rasterkraft- wie auch ein Rastertunnelmikroskop eingebaut sind. In dieser Anlage ist es aufgrund der einzigartigen Anordnung der Mikroskope möglich, die Tunnelspitze (oder den Cantilever) während des eigentlichen Messprozesses mit Hilfe des Elektronenmikroskops zu beobachten. Man kann so die zu untersuchende Probenstelle sehr genau auswählen und die Messsonde an der gewünschten Stelle positionieren.

 Aufgrund der Integration des Elektronenmikroskops in eine UHV-Anlage herrscht in der Prozeßkammer ein wesentlich besseres Vakuum (~ 10^-10 mbar), als dies normalerweise beim Hitachi S-800 der Fall wäre. Allerdings ist dadurch auch die maximale Größe der zu untersuchenden Proben kleiner als üblich, da diese durch die vorhandenen Rasterkraft- und Rastertunnelmikroskope vorgegeben wird. Sie beträgt etwa 5 x 5 mm².