Roth & Rau MicroSys 350

Das MicroSys 350 wurde entwickelt, um ein flexibles System für Plasma- und Ionenstrahlprozesse im Forschungsbereich zu schaffen. Es verfügt über eine zylindrische Prozesskammer mit einem Durchmesser von 350 mm, in der sowohl ein DC-Magnetron als auch ein RF-Magnetron untergebracht sind. Die Proben können in einem speziellen Karussell auf sechs verschiedenen Probenhaltern eingesetzt werden. Die Schichtdickenmessung erfolgt mittels eines Quarzsensors, der Schichtdicken im Nanometerbereich messen kann. Die maximalen Sputterleistungen betragen 1000 W für das DC-Magnetron und 600 W für das RF-Magnetron, der Entladungsstrom beträgt maximal 1.5 A. Der gleichmäßig besputterte Bereich beträgt ungefähr 5 x 5 cm² bei einem Arbeitsabstand von 10 cm. Die Kammer kann vor dem Einlassen des Arbeitsgases innerhalb von 2 Stunden auf ein Vakuum von < 10^-5 mbar gepumpt werden, der eigentliche Arbeitsdruck liegt bei etwa 10^-3 mbar. 

Als Targetmaterial stehen in der Arbeitsgruppe verschiedene Metalle zur Verfügung. Das MicroSys 350 findet in der Arbeitsgruppe Verwendung zur Herstellung dünner Filme für rastersondenmikroskopische Untersuchungen, oft in Zusammenhang mit der Elektronenstrahllithographie.